一种远红外负离子日用陶瓷的原料研磨设备及研磨工艺

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专利状态

一种远红外负离子日用陶瓷的原料研磨设备及研磨工艺

有效

专利申请进度

申请

2021-10-13

申请公布

2021-12-31

授权

2023-07-28

预估到期

2041-10-13

专利基础信息

申请号	CN202111223889.6	申请日	2021-10-13
申请公布号	CN113856817A	申请公布日	2021-12-31
授权公布号	CN113856817B	授权公告日	2023-07-28
分类号	B02C7/02;B02C7/06;B02C7/08;B02C7/11;B02C7/16;B02C23/02
分类	破碎、磨粉或粉碎；谷物碾磨的预处理;
申请人名称	山东北钛河陶瓷有限公司
申请人地址	山东省枣庄市峄城区经济开发区郯薛路3号

专利法律状态

2023-07-28

授权

状态信息

授权
2022-01-21

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):B02C7/02；申请日:20211013
2021-12-31

公布

状态信息

公布

摘要

本发明公开了一种远红外负离子日用陶瓷的原料研磨设备及研磨工艺，属于陶瓷原料研磨技术领域，壳体的内部设有固定研磨盘一、固定研磨盘二，壳体的内部通过两个固定研磨盘分隔成研磨腔和储料腔一、储料腔二，壳体的内部设有一个可驱动移动研磨盘、转动研磨盘一、转动研磨盘二进行转动还可同时驱动移动研磨盘左右移动的驱动机构。电机在转动时，不仅会带动转轴一、转轴二转动并使固定套接在转轴一、转轴二上的转动研磨盘一、转动研磨盘二进行转动并对陶瓷原料进行研磨，同时还能使固定套接在连接轴上的移动研磨盘能够以旋转挤压的形式对陶瓷原料进行研磨，该种通过对陶瓷原料进行两次研磨的设置，大大提高了该装置对陶瓷原料的研磨效果。

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