一种组合式光谱选择性吸收膜层快速沉积工艺

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专利状态

一种组合式光谱选择性吸收膜层快速沉积工艺

有效

专利申请进度

申请

2013-05-13

申请公布

2013-07-24

授权

2015-11-18

预估到期

2033-05-13

专利基础信息

申请号	CN201310174436.8	申请日	2013-05-13
申请公布号	CN103215556A	申请公布日	2013-07-24
授权公布号	CN103215556B	授权公告日	2015-11-18
分类号	C23C14/35;C23C14/08;C23C14/06;C23C14/14;F24J2/48
分类	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称	日出东方控股股份有限公司
申请人地址	江苏省连云港市新浦区瀛州南路199号

专利法律状态

2019-07-19

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

状态信息

专利权人的姓名或者名称、地址的变更IPC(主分类):C23C 14/35变更前专利权人:日出东方太阳能股份有限公司地址:222000 江苏省连云港市新浦区瀛州南路199号变更后专利权人:日出东方控股股份有限公司地址:222000 江苏省连云港市新浦区瀛州南路199号
2015-11-18

授权

状态信息

授权
2013-08-21

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/35申请日:20130513
2013-07-24

公布

状态信息

公开

摘要

本发明是一种组合式光谱选择性吸收膜层快速沉积工艺，组合式光谱选择性吸收膜层由内至外由红外反射层、吸收层和减反层依次叠合组成；它采用磁控溅射方法得到红外反射层和吸收层，采用空心阴极气流溅射方法得到减反层。本发明工艺充分利用了磁控溅射方法制备的红外反射层、吸收层金属纯度高，且能够充分发挥磁控溅射法能够精确控制膜层中的金属含量和膜层厚度的优点，从而得到具有高吸收比，低发射比的太阳光谱选择性吸收膜层。利用气流反应溅射制备的金属化合物纯度高、致密、沉积速率快的优点，提高整个光谱选择性吸收膜层的抗氧化性、耐腐蚀性和耐高温性能。本发明工艺沉积效率高、沉积速率快、膜层结合牢靠、膜层性能大幅度提高的优点。

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