能充分且相对均匀补光的高拍仪

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专利状态

能充分且相对均匀补光的高拍仪

有效

专利申请进度

申请

2018-01-18

授权

2018-10-19

预估到期

2028-01-18

专利基础信息

申请号	CN201820085923.5	申请日	2018-01-18
授权公布号	CN207995205U	授权公告日	2018-10-19
分类号	H04N1/04;H04N1/028
分类	电通信技术;
申请人名称	深圳市新良田科技股份有限公司
申请人地址	广东省深圳市南山区科苑路清华信息港综合楼2层208室

专利法律状态

2018-10-19

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开了一种能充分且相对均匀补光的高拍仪，包括用于放置拍摄物体的拍摄台，所述拍摄台上方设置有拍摄臂，所述拍摄臂上设置有面向拍摄台的补光光源和镜头，所述拍摄臂安装补光光源的位置设置为斗形内凹槽，所述斗形内凹槽的底部安装有补光光源，所述补光光源外覆盖有一透镜，所述斗形内凹槽的形状和深度设置为透镜发射的光线经斗形内凹槽各边收光后照射在拍摄台的四边内。本实用新型具有能保证光源充分利用和补光相对均匀性的优点。

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