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专利状态
一种可提高曝光精度的曝光机
有效
专利申请进度
申请
2023-03-27
授权
2023-09-26
预估到期
2033-03-27
专利基础信息
申请号 CN202320639377.6 申请日 2023-03-27
授权公布号 CN219758663U 授权公告日 2023-09-26
分类号 G03F7/20
分类 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
申请人名称 信利光电股份有限公司
申请人地址 广东省汕尾市城区工业大道信利工业城一区第15栋
专利法律状态
  • 2023-09-26
    授权
    状态信息
    授权
摘要
本实用新型公开了一种可提高曝光精度的曝光机,其应用于曝光机,其包括掩膜组件,所述掩膜组件的顶面设有稳定机构;所述掩膜组件的一侧侧壁上固定设有间隙传感器;所述稳定机构包括一号稳定组件与二号稳定组件,所述一号稳定组件位于掩膜组件的一侧上方,所述二号稳定组件位于掩膜组件的另一侧上方。本实用新型在掩膜板的顶面贴合稳定机构,使得稳定机构的吸板在负压设备的作用下稳定吸附在掩膜板上,使得在掩膜板因重力导致下垂时,通过设置的间隙传感器检测后,通过控制设备控制稳定机构的驱动设备启动拉动吸板移动,从而拉动掩膜板的四角移动,从而对掩膜板的下垂量进行调整,调整方便,从而通过调整掩膜板的下垂量提高曝光机的曝光精度。