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专利状态
一种基板处理装置
有效
专利申请进度
申请
2023-07-24
授权
2024-01-26
预估到期
2033-07-24
专利基础信息
申请号 CN202321944434.8 申请日 2023-07-24
授权公布号 CN220387435U 授权公告日 2024-01-26
分类号 B09B3/00;B09B101/50N
分类 固体废物的处理;被污染土壤的再生〔3,6〕;
申请人名称 信利光电股份有限公司
申请人地址 广东省汕尾市区工业大道信利工业城一区第15栋
专利法律状态
  • 2024-01-26
    授权
    状态信息
    授权
摘要
本实用新型涉及一种基板处理装置,其特征在于,包括传送机构、超高压机构、吸真空机构及基板回收腔;传送机构用于传送基板,传送机构包括传送轮;超高压机构包括高压泵、连接管及喷淋头,喷淋头位于传送机构上方;基板回收腔设于传送机构下方,基板回收腔腔体两侧设有吸真空装置。基板回收腔上方设有可打开伸缩的盖体。盖体包括第一盖体及第二盖体,第一盖体及第二盖体下方设有滑轨,滑轨驱动第一和第二盖体向左右两个方向运动,打开盖体。本实用新型在基板传送过程中,在高压泵的压力下,有暗伤的基板在遭到强压力下,进行破坏性处理,无法进行传送轮流出,在产线上通过吸真空装置,将损坏的基板处理到基板回收腔体内。