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专利状态

镭雕方法

有效

专利申请进度

申请

2019-05-06

申请公布

2019-07-23

授权

2021-12-07

预估到期

2039-05-06

专利基础信息

申请号	CN201910371220.8	申请日	2019-05-06
申请公布号	CN110039188A	申请公布日	2019-07-23
授权公布号	CN110039188B	授权公告日	2021-12-07
分类号	B23K26/362
分类	机床；不包含在其他类目中的金属加工;
申请人名称	深圳市万普拉斯科技有限公司
申请人地址	广东省深圳市前海深港合作区前湾一路1号A栋201室

专利法律状态

2021-12-07

授权

状态信息

授权
2019-08-16

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):B23K26/362；申请日:20190506
2019-07-23

公布

状态信息

公布

摘要

本发明涉及一种镭雕方法，应用于表面具有PVD膜层的待加工件，所述方法包括：提确认所述待加工件的镭雕区域，所述待加工件包括第一材料和第二材料，所述镭雕区域位于所述第一材料；调节激光器的激光参数，以使激光对所述第一材料表面的膜层有作用力而对所述第二材料表面的膜层无作用力；根据所述激光参数，所述激光器对所述镭雕区域进行激光镭雕，以去除所述镭雕区域表面的膜层。上述镭雕方法，通过调节激光参数，使得激光只对第一材料表面的膜层有作用力而对第二材料表面的膜层无作用力，进而激光只与第一材料表面的膜层发生反应以去除第一材料上镭雕区域表面的膜层。对遮蔽治具以及遮蔽技术要求不高，可以降低设备成本。

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