电致发光显示基板、显示装置以及制作方法

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专利状态

电致发光显示基板、显示装置以及制作方法

有效

专利申请进度

申请

2020-12-04

申请公布

2021-03-19

授权

2024-03-12

预估到期

2040-12-04

专利基础信息

申请号	CN202011398927.7	申请日	2020-12-04
申请公布号	CN112531002A	申请公布日	2021-03-19
授权公布号	CN112531002B	授权公告日	2024-03-12
分类号	H10K59/122;H10K50/842;H10K71/00
分类	基本电气元件;
申请人名称	京东方科技集团股份有限公司
申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利法律状态

2024-03-12

授权

状态信息

授权
2021-04-06

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):H01L27/32；申请日:20201204
2021-03-19

公布

状态信息

公布

摘要

本申请实施例公开一种电致发光显示基板、显示装置以及制作方法。该电致发光显示基板包括：衬底；形成在所述衬底上的显示区、隔离区和开孔区，所述显示区和所述隔离区围绕所述开孔区，所述隔离区位于所述显示区和所述开孔区之间，所述显示区包括在衬底上依次层叠设置的驱动电路层和发光器件层，其中，所述隔离区包括至少一个隔离柱，所述隔离柱围绕所述开孔区，所述隔离柱包括依次层叠设置的多个隔离柱层，位于中间的隔离柱层向内形成凹陷，所述隔离区还包括与所述显示区的驱动电路层同层设置的至少一个围堰，所述围堰设置于所述隔离柱的靠近所述显示区的一侧，且围绕所述开孔区。该实施例可有效提高电致发光显示基板显示区的膜层均匀性，从而提高良品率。

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