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专利状态
阵列基板及其制备方法、液晶显示面板及显示装置
有效
专利申请进度
申请
2019-08-27
申请公布
2021-03-05
授权
2024-03-15
预估到期
2039-08-27
专利基础信息
申请号
CN201910798360.3
申请日
2019-08-27
申请公布号
CN112447760A
申请公布日
2021-03-05
授权公布号
CN112447760B
授权公告日
2024-03-15
分类号
H01L27/12;H01L23/552;H01L21/77;G02F1/1362
分类
基本电气元件;
申请人名称
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路10号
专利法律状态
2024-03-15
授权
状态信息
授权
2021-03-05
公布
状态信息
公布
摘要
本发明提供了一种阵列基板及其制备方法、液晶显示面板及显示装置,涉及显示技术领域,能够提高显示装置的显示效果。其中的阵列基板,包括:衬底、设置于衬底上的薄膜晶体管以及数据线;薄膜晶体管包括依次设置于衬底上的有源层图案、源极和漏极;数据线与源极、漏极同层同材料。阵列基板还包括设置于数据线靠近衬底一侧的保留图案和第一遮光图案,保留图案位于第一遮光图案与数据线之间;保留图案、第一遮光图案与数据线一一对应,且沿衬底厚度方向,第一遮光图案的正投影覆盖保留图案的正投影,保留图案的正投影与数据线的正投影重叠;其中,保留图案与有源层图案同层同材料。
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