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专利状态
一种用于半导体产品擦拭的高洁净度无尘布
有效
专利申请进度
申请
2021-12-06
授权
2022-05-31
预估到期
2031-12-06
专利基础信息
申请号
CN202123115905.8
申请日
2021-12-06
授权公布号
CN216635717U
授权公告日
2022-05-31
分类号
B32B27/02;B32B27/36;B32B27/06;B32B23/02;B32B23/08;B32B23/10;B32B27/12;B32B5/02
分类
层状产品;
申请人名称
广东硕源科技股份有限公司
申请人地址
广东省东莞市万江街道上甲社区汾溪一路83号尚甲都市产业园办公楼2楼201-204室
专利法律状态
2022-05-31
授权
状态信息
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于半导体产品擦拭的高洁净度无尘布,其特征在于包括布体,所述布体包括由上至下依次叠设的面料本体层、亲水层、柔软层和静电层。本实用新型所述的一种用于半导体产品擦拭的高洁净度无尘布的布体包括由上至下依次叠设的面料本体层、亲水层、柔软层和静电层。亲水层能赋予无尘布优异的亲水性能,使其瞬间吸水并迅速扩散水体,解决了聚酯材料不吸水的问题。而柔软层则赋予无尘布的高柔软度。静电层赋予无尘布出色的防静电性能;本实用新型使用时尘埃脱落和纤维脱落低,即使剧烈擦拭也可以保优异的静电效果。
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