一种全抛釉、以及具有全抛釉的抛釉砖及其制备方法

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专利状态

一种全抛釉、以及具有全抛釉的抛釉砖及其制备方法

有效

专利申请进度

申请

2020-05-26

申请公布

2021-05-04

授权

2022-08-05

预估到期

2040-05-26

专利基础信息

申请号	CN202110012259.8	申请日	2020-05-26
申请公布号	CN112745145A	申请公布日	2021-05-04
授权公布号	CN112745145B	授权公告日	2022-08-05
分类号	C03C8/00
分类	水泥；混凝土；人造石；陶瓷；耐火材料〔4〕;
申请人名称	蒙娜丽莎集团股份有限公司
申请人地址	广东省佛山市南海区西樵轻纺城工业园

专利法律状态

2022-08-05

授权

状态信息

授权
2021-05-04

公布

状态信息

公布

摘要

本发明涉及一种全抛釉、以及具有全抛釉的抛釉砖及其制备方法。所述全抛釉施加于砖体上在烧成温度为1200～1220℃、烧成周期为60～80min的条件下烧成后的釉面层中均匀存在直径在20μm以下的气泡，所述全抛釉的原料配方包括：按质量计，茶晶长石22～30%，氧化锌6～9%，碳酸钡12～14%，烧滑石7～9%，高岭土8～10%，325目刚玉6～12%，玻璃熔块23～27%，硅酸锆1～3%。该全抛釉烧成后透明度高、硬度达到6级，耐磨等级达到6000转（4级）。

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