一种低温快烧全抛结晶釉、包含该全抛结晶釉的艺术岩板及制备方法

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专利状态

一种低温快烧全抛结晶釉、包含该全抛结晶釉的艺术岩板及制备方法

有效

专利申请进度

申请

2022-05-26

申请公布

2022-09-06

授权

2023-12-08

预估到期

2042-05-26

专利基础信息

申请号	CN202210582004.X	申请日	2022-05-26
申请公布号	CN115010367A	申请公布日	2022-09-06
授权公布号	CN115010367B	授权公告日	2023-12-08
分类号	C03C8/02;C03C8/14;C04B41/89
分类	玻璃；矿棉或渣棉;
申请人名称	蒙娜丽莎集团股份有限公司
申请人地址	广东省佛山市南海区西樵轻纺城工业园

专利法律状态

2023-12-08

授权

状态信息

授权
2022-09-23

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):C03C8/02；申请日:20220526
2022-09-06

公布

状态信息

公布

摘要

本发明涉及一种低温快烧全抛结晶釉、包含该全抛结晶釉的艺术岩板及制备方法，属于陶瓷建材领域。所述低温快烧全抛结晶釉的原料组成包括：以质量百分比计，结晶抛釉90‑99%，引晶干粒0.5‑5.0%，熔块0.5‑5.0%；所述引晶干粒的化学组成包括：以质量百分比计，Na2O：5.0‑8.0%；SiO2：20‑40%；Al2O3：5.0‑10%；ZnO：30‑60%；TiO2：1.0‑8.0%。

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