一种磁头清洁装置及其方法

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专利状态

一种磁头清洁装置及其方法

有效

专利申请进度

申请

2019-03-28

申请公布

2019-07-05

授权

2020-11-06

预估到期

2039-03-28

专利基础信息

申请号	CN201910245403.5	申请日	2019-03-28
申请公布号	CN109967418A	申请公布日	2019-07-05
授权公布号	CN109967418B	授权公告日	2020-11-06
分类号	B08B1/02;B08B3/04
分类	清洁;
申请人名称	福建实达电脑设备有限公司
申请人地址	福建省福州市马尾区君竹路（自贸试验区内）

专利法律状态

2020-11-06

授权

状态信息

授权
2019-07-30

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):B08B1/02；专利申请号:2019102454035；申请日:20190328
2019-07-05

发明专利申请公布

状态信息

公布

摘要

本发明涉及一种磁头清洁装置及其方法，包括支架和清洁材料，所述支架中部设置有用于放置清洁材料的凹腔，支架上设置有用于压紧清洁材料的磁头清洁盖板，支架的一侧部还设置有与凹腔相连通并允许清洁材料的一部分探出的窗口。该磁头清洁装置不仅结构紧凑，方便实现磁头清洁，而且便捷高效。

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