商标名称 | 央美 | 商标类型 | 普通商标 |
商标申请/注册号 | 24931052 | 专用权期限至 | 2028-09-20 |
初审公告期号 | 1604 | 注册公告期号 | 1616 |
国际分类 | 01-化学原料 | 商标状态 | 商标已注册 |
申请人名称 | 中央美术学院 | ||
注册地址 | 北京市朝阳区花家地南街8号 |
0101 | 碱土金属 |
0102 | 碱 |
0102 | 甲酸 |
0104 | 制漆用化学品 |
0111 | 金属退火剂 |
0104 | 防霉化学制剂 |
0109 | 肥料 |
0102 | 工业用酶 |
0104 | 油石灰(油灰) |
0102 | 苯衍生物 |
0102 | 表面活性剂 |
0104 | 除颜料外的制造搪瓷用化学品 |
0104 | 蓄电池用防泡沫溶液 |
0104 | 生产加工用去污剂 |
0102 | 酸 |
0102 | 二氧化锰 |
0102 | 工业用盐 |
0102 | 醋酸盐(化学品) |
0102 | 酒精 |
0102 | 醛 |
0102 | 蛋白质(原料) |
0102 | 工业用过氧化氢 |
0104 | 过滤材料(化学制剂) |
0104 | 钻探泥浆用化学添加剂 |
0106 | 科学用化学制剂(非医用、非兽医用) |
0110 | 灭火合成物 |
0101 | 工业用固态气体 |
0102 | 醚 |
0102 | 生物碱 |
0104 | 纺织工业用上浆料 |
0104 | 铸造制模用制剂 |
0104 | 硫化加速剂 |
0104 | 墙纸清除剂 |
0104 | 动物炭 |
0107 | 摄影用还原剂 |
0108 | 未加工人造树脂 |
0112 | 焊接用化学品 |
0113 | 食物防腐用化学品 |
0114 | 皮革表面处理用化学制品 |
0115 | 工业用粘合剂 |
0102 | 工业用酚 |
0102 | 酮 |
0102 | 酯 |
0102 | 工业用淀粉 |
0102 | 蒸馏水 |
0103 | 科学用放射性元素 |
0104 | 混凝土用凝结剂 |
0104 | 易燃制剂(发动机燃料用化学添加剂) |
0104 | 水净化用化学品 |
0104 | 和研磨剂配用的辅助液 |
0104 | 工业用脱色剂 |
0104 | 防冷凝化学品 |
0105 | 杀真菌剂用化学添加剂 |
0108 | 增塑剂 |
0116 | 纸浆 |
0104 | 工业用亮色化学品 |