原子灰修补工艺指的是一种利用原子层沉积技术将纳米级材料填充到微细裂缝或缺陷中，以修补材料表面缺陷的工艺。该工艺具有精度高、填充效果好、能耗低等优势，被广泛应用于半导体、光电子、光催化等领域。在半导体领域中，原子灰修补技术能够修补芯片表面的小孔和划痕等微观缺陷，从而提高芯片产品的质量和性能。在光电子领域中，原子灰修补技术能够修复光纤表面的微观裂缝和缺陷，增强光学器件的透过率和稳定性。同时，该技术还可以应用于制备纳米结构材料、修复微细电子元件等方面。
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