一种去除三氟甲基次氟酸酯中杂质的工业化方法

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专利状态

一种去除三氟甲基次氟酸酯中杂质的工业化方法

有效

专利申请进度

申请

2021-05-13

申请公布

2022-11-15

授权

2023-12-26

预估到期

2041-05-13

专利基础信息

申请号	CN202110524394.0	申请日	2021-05-13
申请公布号	CN115340459A	申请公布日	2022-11-15
授权公布号	CN115340459B	授权公告日	2023-12-26
分类号	C07C71/00
分类	有机化学〔2〕;
申请人名称	中昊晨光化工研究院有限公司
申请人地址	四川省自贡市富顺县富世镇晨光路193号

专利法律状态

2023-12-26

授权

状态信息

授权
2022-11-15

公布

状态信息

公布

摘要

本发明涉及氟化工技术领域，具体涉及一种去除三氟甲基次氟酸酯中杂质的工业化方法，包括将待处理物料通入低温吸收液中进行冷却吸收的操作；吸收液中包括三氯三氟乙烷，吸收液的温度为‑85℃～‑75℃。本发明所述方法操作步骤简单，仅通过简单地物理降温和吸收即可实现杂质物质的去除，不需要进行精馏或蒸馏等其他复杂的操作，适于工业化应用。

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