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专利状态
热等静压法生产ITO靶材的方法
有效
专利申请进度
申请
2008-12-02
申请公布
2009-04-15
授权
2010-09-01
预估到期
2028-12-02
专利基础信息
申请号 CN200810179368.3 申请日 2008-12-02
申请公布号 CN101407904A 申请公布日 2009-04-15
授权公布号 CN101407904B 授权公告日 2010-09-01
分类号 C23C14/08;C23C14/34
分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称 株洲冶炼集团股份有限公司
申请人地址 湖南省株洲市石峰区清水塘
专利法律状态
  • 2010-09-01
    授权
    状态信息
    授权
  • 2009-06-10
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效
  • 2009-04-15
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明涉及到采用热等静压法进行ITO靶材的方法,其特征在于,所使用的ITO粉料经过不低于1000℃温度的煅烧,并且在热等静压处理过程中使用石墨纸作为隔离材料,避免靶材与包套反应,方便剥离,提高靶材成材率,适合于工业化生产。压制出的靶材相对密度可达到99%以上。