一种基于固定式气流反射格栅阵列的冲击波衰减装置

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专利状态

一种基于固定式气流反射格栅阵列的冲击波衰减装置

有效

专利申请进度

申请

2021-10-09

授权

2022-05-27

预估到期

2031-10-09

专利基础信息

申请号	CN202122445133.8	申请日	2021-10-09
授权公布号	CN216618761U	授权公告日	2022-05-27
分类号	F16K47/02
分类	工程元件或部件；为产生和保持机器或设备的有效运行的一般措施；一般绝热;
申请人名称	无锡斐冠工业设备有限公司
申请人地址	江苏省无锡市滨湖区胡埭工业园刘塘路18号

专利法律状态

2022-05-27

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型提供了一种基于固定式气流反射格栅阵列的冲击波衰减装置，包括具有两个相对设置的通风口的外框和固定在外框内的气流反射格栅，两个通风口之间设置有多排气流反射格栅阵列；每排气流反射格栅阵列包括多列均匀排布的承压构件，相邻的承压构件之间具有间隙；所述承压构件包括一侧具有开口的第一承压构件和设置在气流反射格栅阵列两端的第二承压构件，所述第一承压构件的开口朝向通风口，所述第一承压构件和所述第二承压构件的排布使两个通风口之间形成非直通的空气流道。本实用新型的优点是通过多排气流反射格栅阵列，主动引导冲击波撞向承压构件，使冲击波大部分被反射回，仅少部分透过气流反射格栅，该装置结构简单，抗爆效果明显，性价比高。

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