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专利状态
一种晶圆调平装置及测试设备
有效
专利申请进度
申请
2022-03-30
授权
2022-11-11
预估到期
2032-03-30
专利基础信息
申请号
CN202220735221.3
申请日
2022-03-30
授权公布号
CN217787150U
授权公告日
2022-11-11
分类号
G01R1/04
分类
测量;测试;
申请人名称
深圳市深科达智能装备股份有限公司
申请人地址
广东省深圳市宝安区福永街道征程二路2号A栋、B栋第一至三层、C栋第一层、D栋
专利法律状态
2022-11-11
授权
状态信息
授权
2022-03-30
公布
状态信息
公布
摘要
本实用新型公开了一种晶圆调平装置及测试设备,该晶圆调平装置包括:底板、安装组件、载盘以及多个压电陶瓷模组,其中,安装组件设置于底板,安装组件具有沿底板的厚度方向贯通安装组件的安装空间;载盘位于安装空间内且与安装组件连接,载盘包括相背设置的正面及背面,背面朝向底板,正面用于放置晶圆;多个压电陶瓷模组均安装于底板与背面之间,且多个压电陶瓷模组在底板上的投影互不重合,压电陶瓷模组用于在通电时发生沿底板的厚度方向上的变形,以改变载盘相对底板的沿底板的厚度方向上的水平度。本申请能够提高晶圆调平装置的调节精度和调节效率。
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