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专利状态
光内同轴送球激光熔覆头及熔覆系统
有效
专利申请进度
申请
2019-12-23
授权
2020-07-24
预估到期
2029-12-23
专利基础信息
申请号
CN201922328040.X
申请日
2019-12-23
授权公布号
CN211079337U
授权公告日
2020-07-24
分类号
C23C24/10
分类
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称
苏州天弘激光股份有限公司
申请人地址
江苏省苏州市苏州工业园区通和路66号
专利法律状态
2020-07-24
授权
状态信息
授权
摘要
本实用新型涉及的一种光内同轴送球激光熔覆头,用以在基材上熔覆被熔覆材料,其包括支架壳体、设置在支架壳体内的反射聚焦组镜和设置在支架壳体上且用以输送被熔覆材料的喷嘴,反射聚焦组镜将激光光束聚焦反射以形成熔覆光束,熔覆光束在基材的上方形成熔覆点,喷嘴位于熔覆光束内,被熔覆材料为焊球。由于光内同轴送球激光熔覆头的被熔覆材料为焊球,相对粉状的被熔覆材料,焊球利用率高;熔覆光束在基材的上方形成熔覆点,减小了基材对熔覆光束能量的吸收,使熔覆光束能量利用率高,故,结构简单的光内同轴送球激光熔覆头对基材激光熔覆的良品率高。
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