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专利状态
一种产线光谱测量系统
失效
专利申请进度
申请
2013-11-07
授权
2014-04-30
预估到期
2023-11-07
专利基础信息
申请号
CN201320698895.1
申请日
2013-11-07
授权公布号
CN203572575U
授权公告日
2014-04-30
分类号
G01J3/28
分类
测量;测试;
申请人名称
杭州远方光电信息股份有限公司
申请人地址
浙江省杭州市滨江区滨康路669号
专利法律状态
2023-11-24
专利权的终止
状态信息
专利权有效期届满;IPC(主分类):G01J3/28;专利号:ZL2013206988951;申请日:20131107;授权公告日:20140430;终止日期:
2014-04-30
授权
状态信息
授权
摘要
本实用新型公开了一种产线光谱测量系统,通过控制中心控制光谱测量装置的测量时序与生产线上被测目标的移动时序相同步,可根据测量需要实现被测目标不同发光区域图像光谱的测量,功能强大且测试速度快,满足各种产线的测试要求;同时还可通过灵活配置成像或者阵列探测等采样方式,减小杂散光,提高测量准确度。
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