一种制备半导体用超纯氨的装置

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专利状态

一种制备半导体用超纯氨的装置

有效

专利申请进度

申请

2022-02-23

授权

2022-07-12

预估到期

2032-02-23

专利基础信息

申请号	CN202220370536.2	申请日	2022-02-23
授权公布号	CN216946234U	授权公告日	2022-07-12
分类号	C01C1/02
分类	无机化学;
申请人名称	湖北和远气体股份有限公司
申请人地址	湖北省宜昌市长阳土家族自治县龙舟坪镇龙舟大道52号（馨农家园）2栋1102号

专利法律状态

2022-07-12

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开了一种制备半导体用超纯氨的装置，所述装置包括依次连通的汽化单元、用于脱硫脱水的预处理单元、脱轻单元、脱重单元和用以除水、氧和金属的后纯化单元，及用于对汽化单元和精馏系统加热的供热系统；所述装置可便捷高效地除去水、氧及金属等杂质获得超纯氨；此外供热系统的介质既提供热源，又提供冷源，实现连续化节能生产；高低沸点组分的脱除可作为工业氨回收利用，无废气排放。

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