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专利状态
一种蚀刻液多级错层补偿萃取装置
有效
专利申请进度
申请
2019-05-21
授权
2020-02-21
预估到期
2029-05-21
专利基础信息
申请号
CN201920734587.7
申请日
2019-05-21
授权公布号
CN210096998U
授权公告日
2020-02-21
分类号
B01D11/04;C23F1/46
分类
一般的物理或化学的方法或装置;
申请人名称
浙江展邦电子科技有限公司
申请人地址
浙江省温州市瓯海区郭溪街道下屿工业区富泉路75号
专利法律状态
2020-02-21
授权
状态信息
授权
摘要
本实用新型公开了一种蚀刻液多级错层补偿萃取装置,包括萃取箱、安装在萃取箱底部四个拐角处的支撑腿和排液管,所述萃取箱的内部两侧呈竖直对称开设有两组升降滑槽,所述萃取箱的内侧呈水平滑嵌有两组升降架,且两组升降架的外部靠近升降滑槽的一侧均固定连接有升降滑块。本实用新型中,首先,内部设置有多级错层式萃取机构,这种结构可实现萃取液的多级错层分离处理,既便于蚀刻液的萃取加工使用,同时也提升了萃取装置的萃取加工的效率,其次,内部设置有滤液及清洁机构,这种结构可实现萃取液的过滤以及滤网的自清洁处理,既提升了萃取液萃取处理的质量,同时有提升了萃取装置的功能性。
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