首页
品牌
排行
问答
专题
特惠
资讯
展会
百科
热门行业
装修建材
家居生活
餐饮食品
母婴教育
电脑办公
服装首饰
汽车工具
家电数码
机械化工
休闲美容
热门行业
教育培训
板材
地板
涂料
家纺
集成吊顶
美缝剂
木门
硅藻泥
管材
指纹锁
橱柜
衣柜
床垫
电热水器
集成灶
暖气片
净水器
酒店
卫浴
装修建材
卫浴洁具
板材
地板
建筑陶瓷
天花板
涂料
瓷砖泥瓦
水电管材
火锅
快餐
生活用品
软装
装饰装潢
灯具
家纺
干洗服务
内衣
男装
女装
幼教
整体卫浴
地板砖
阻燃板
铝材
集成吊顶
美缝剂
硅藻泥
管材
烤鱼
汉堡
叶酸
婴儿用品
婴儿床
指纹锁
品牌首页
品牌资讯
企业信息
商标信息
专利信息
返回上一页
专利状态
半导体结构及其形成方法
有效
专利申请进度
申请
2018-11-23
申请公布
2020-06-02
授权
2023-10-20
预估到期
2038-11-23
专利基础信息
申请号
CN201811408251.8
申请日
2018-11-23
申请公布号
CN111223779A
申请公布日
2020-06-02
授权公布号
CN111223779B
授权公告日
2023-10-20
分类号
H01L21/336;H01L29/786;H01L29/423
分类
基本电气元件;
申请人名称
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请人地址
上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区张江路18号
专利法律状态
2023-10-20
授权
状态信息
授权
2020-06-26
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效;IPC(主分类):H01L21/336;申请日:20181123
2020-06-02
公布
状态信息
公布
摘要
一种半导体结构及其形成方法,形成方法包括:提供基底,基底包括衬底、凸出于衬底的鳍部以及依次位于鳍部上的多个沟道叠层,每一个沟道叠层包括牺牲层和位于牺牲层上的沟道层,与鳍部相邻的沟道叠层为底部沟道叠层;形成横跨沟道叠层的伪栅结构,伪栅结构覆盖沟道叠层的部分顶部和部分侧壁;刻蚀伪栅结构两侧的沟道叠层,在伪栅结构两侧的沟道叠层内形成露出鳍部的凹槽;形成凹槽后,去除底部沟道叠层的牺牲层,在鳍部和底部沟道叠层的沟道层之间形成通道;在凹槽底部形成隔离层,隔离层还填充于通道内;形成隔离层后,在凹槽内形成源漏掺杂层。本发明实施例有利于降低源漏掺杂层和鳍部之间的寄生电容、以及金属栅结构和鳍部之间的漏电流。
更多专利
1
半导体结构及其形成方法
2
LDMOS器件及其形成方法
3
掩膜图形修复方法及掩膜板
4
一种双模预分频器
5
鳍式场效应晶体管的形成方法
6
半导体结构及其形成方法
7
半导体结构及其形成方法
8
工艺传感器
9
半导体结构及其形成方法
10
半导体结构的制作方法
11
半导体结构及其形成方法
12
半导体结构及其形成方法
13
半导体结构及其形成方法
14
自对准双重图形化方法及其形成的半导体结构
15
半导体结构及其形成方法
16
IGBT器件及其形成方法
17
半导体结构的形成方法
18
半导体结构的形成方法
19
半导体结构及其形成方法
20
半导体结构的及其形成方法
全国服务热线:
在线客服
1211389656
咨询
商务合作
85926368
咨询
媒体合作
921888730
咨询
在线客服
客服微信号
品牌网官方客服微信
打开微信扫一扫
客服微信
商务合作微信
商务合作详谈
打开微信扫一扫
商务合作
回到顶部