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专利状态
一种大光圈投影光学系统
有效
专利申请进度
申请
2017-07-19
申请公布
2017-09-08
授权
2023-07-21
预估到期
2037-07-19
专利基础信息
申请号 CN201710590919.4 申请日 2017-07-19
申请公布号 CN107144945A 申请公布日 2017-09-08
授权公布号 CN107144945B 授权公告日 2023-07-21
分类号 G02B13/06;G02B13/00;G02B1/00;G02B1/04
分类 光学;
申请人名称 中山联合光电科技股份有限公司
申请人地址 广东省中山市火炬开发区益围路10号
专利法律状态
  • 2023-07-21
    授权
    状态信息
    授权
  • 2017-10-10
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):G02B13/06;申请日:20170719
  • 2017-09-08
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明公开了一种大光圈投影光学系统,从投射面到发光芯片依次设置有:第一透镜,第一透镜为球面透镜,且光焦度为负;第二透镜,第二透镜为非球面透镜,光焦度为负;且第二透镜两面均弯向发光芯片;光阑;第三透镜,第三透镜为球面透镜,光焦度为正,且第三透镜采用双凸透镜;第四透镜,第四透镜为球面透镜,且光焦度为负;第五透镜,第五透镜为球面透镜,且光焦度为正;第六透镜,第六透镜为球面透镜,且光焦度为正;第七透镜,第七透镜为非球面透镜;且光焦度为正;棱镜。本发明结构简单,光圈大,体积小,低成本,放大率高、高温共焦。