投影光机模块、光学系统及投影设备

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专利状态

投影光机模块、光学系统及投影设备

有效

专利申请进度

申请

2023-08-15

授权

2024-03-01

预估到期

2033-08-15

专利基础信息

申请号	CN202322197760.3	申请日	2023-08-15
授权公布号	CN220551819U	授权公告日	2024-03-01
分类号	F21S43/20;F21S43/14;F21S43/30;G03B21/20;F21W107/10N;F21Y115/10N
分类	照明;
申请人名称	华域视觉科技（上海）有限公司
申请人地址	上海市嘉定区叶城路767号

专利法律状态

2024-03-01

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型涉及投影装置，公开了一种投影光机模块，包括沿着光线传播方向依次设置的光源、图案单元、成像单元，图案单元包括沿着光线传播方向依次布置的光线角度调整元件、棱镜以及成像控制元件，光源发出的若干光束经由光线角度调整元件进行角度调整后，再使各光束经由棱镜折射到成像控制元件上，成像控制元件用于将各光束选择性地反射向棱镜并经棱镜反射向成像单元，以形成所需投影图案的投影。该投影光机模块能够根据需要投影的图案进行光束的精确控制，从而实现高分辨率、高对比度的图案和视频投影，并且结构简单，制造成本低。此外，本实用新型还涉及一种包括该投影光机模块的光学系统及投影设备。

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