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专利状态

安全检查系统

有效

专利申请进度

申请

2017-01-25

申请公布

2017-05-10

授权

2023-12-01

预估到期

2037-01-25

专利基础信息

申请号	CN201710056720.3	申请日	2017-01-25
申请公布号	CN106645232A	申请公布日	2017-05-10
授权公布号	CN106645232B	授权公告日	2023-12-01
分类号	G01N23/10
分类	测量；测试;
申请人名称	同方威视技术股份有限公司
申请人地址	北京市海淀区双清路同方大厦A座2层

专利法律状态

2023-12-01

授权

状态信息

授权
2017-06-06

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):G01N23/10；申请日:20170125
2017-05-10

公布

状态信息

公布

摘要

本发明提供一种安全检查系统，该安全检查系统包括：支撑主体，包括第一检测通道和第二检测通道；屏蔽装置，设置于第一检测通道和第二检测通道之间；第一射线发射装置，以能够向第一检测通道发射检测射线的方式设置在第一检测通道的远离第二检测通道的一侧；第一探测器装置，设置于第一检测通道中，以接收从第一射线发射装置发射的检测射线；第二射线发射装置，以能够向第二检测通道发射检测射线的方式设置在第二检测通道的远离第一检测通道的一侧；以及第二探测器装置，设置于第二检测通道中，以接收从第二射线发射装置发射的检测射线。能够实现提高生成的辐射图像的成像质量、便于对辐射图像进行物质识别、使判图逻辑清晰的目的。

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