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专利状态
微透镜阵列的成像方法与成像装置
有效
专利申请进度
申请
2014-11-28
申请公布
2016-06-22
授权
2019-01-11
预估到期
2034-11-28
专利基础信息
申请号 CN201410710155.4 申请日 2014-11-28
申请公布号 CN105704402A 申请公布日 2016-06-22
授权公布号 CN105704402B 授权公告日 2019-01-11
分类号 H04N5/357;H04N9/04
分类 电通信技术;
申请人名称 深圳超多维科技有限公司
申请人地址 广东省深圳市前海深港合作区前湾一路1号A栋201室
专利法律状态
  • 2019-01-11
    授权
    状态信息
    授权
  • 2018-07-27
    专利申请权、专利权的转移
    状态信息
    专利申请权的转移IPC(主分类):H04N 5/357登记生效日:20180710变更前 申请人:深圳超多维光电子有限公司 地址:518053 广东省深圳南山区华侨城东部工业区东H-1栋101 申请人:深圳市墨克瑞光电子研究院变更后 申请人:深圳超多维科技有限公司 地址:518000 广东省深圳市前海深港合作区前湾一路1号A栋201室
  • 2016-07-20
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效IPC(主分类):H04N 5/357申请日:20141128
  • 2016-06-22
    公布
    状态信息
    公开
摘要
本发明提供了一种微透镜阵列的成像方法,其用于对微透镜阵列所成的像进行处理,所述微透镜阵列的成像方法包括:通过微透镜阵列对光源成像,以获取底图;通过微透镜阵列在所述光源条件下对实际场景成像,以获取像图;对所述底图与所述像图进行亮度配准;为所述像图中的第一象素建立背景概率模型;以及根据所述第一象素的背景概率模型,对所述像图中的第一象素进行亮度均一化处理。本发明进一步包括一种微透镜阵列的成像装置。所述微透镜阵列的成像方法与成像装置可以有效地消除微透镜阵列成像的亮度分布不均的现象,并且进一步地将微透镜阵列成像的亮度归一化到同一水平。