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专利状态
一种集热膜的真空镀膜方法及真空镀膜设备
有效
专利申请进度
申请
2015-12-23
申请公布
2017-06-30
授权
2019-09-03
预估到期
2035-12-23
专利基础信息
申请号 CN201510981599.6 申请日 2015-12-23
申请公布号 CN106906446A 申请公布日 2017-06-30
授权公布号 CN106906446B 授权公告日 2019-09-03
分类号 C23C14/35;C23C14/14;C23C14/02;C23C14/56
分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称 深圳市拓日新能源科技股份有限公司
申请人地址 广东省深圳市南山区侨香路4060香年广场A栋8楼
专利法律状态
  • 2019-09-03
    授权
    状态信息
    授权
  • 2017-07-25
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):C23C14/35;申请日:20151223
  • 2017-06-30
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明涉及真空镀膜技术的领域,提供集热膜的真空镀膜方法,包括于密闭腔室内设置弧源、靶材、基片箔膜、滚筒组;镀膜时,对腔室抽真空,往腔室内通入氩气、氧气及氮气的混合气体,通气后,驱使滚筒组匀速转动,使基片箔膜匀速传动;给弧源通电,并给基片箔膜施加负偏电压。上述集热膜的真空镀膜方法,通过对腔室内氩气、氧气及氮气的混合气体流量、基片箔膜的移动线速度、弧源的电流和基片箔膜的负偏电压进行调节,使金属等离子体于基片箔膜上均匀沉积,并形成集热膜。因此,其集热膜与基片箔膜的结合强度高,沉积速率高,集热效率高。