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专利状态
一种用于真空蒸馏的钨坩埚
有效
专利申请进度
申请
2020-12-29
授权
2021-09-28
预估到期
2030-12-29
专利基础信息
申请号 CN202023235056.5 申请日 2020-12-29
授权公布号 CN214300319U 授权公告日 2021-09-28
分类号 C23C14/24
分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称 株洲硬质合金集团有限公司
申请人地址 湖南省株洲市荷塘区钻石路288号
专利法律状态
  • 2021-09-28
    授权
    状态信息
    授权
摘要
本实用新型公开了一种用于真空蒸馏的钨坩埚,包括钨坩埚本体,钨坩埚本体为纯钨制成的桶形结构,钨坩埚本体上部外表面同心设置有环形凸台,且环形凸台与钨坩埚本体上缘有一定高度,环形凸台上沿轴向方向设置有螺纹孔,环形凸台与钨坩埚本体是一体成型的,环形凸台上的螺纹孔在两个以上,且螺纹孔等距设置在环形凸台上,环形凸台上端离钨坩埚本体上缘的距离为2~6mm,螺纹孔的孔径为M5~M8,钨坩埚本体外径为155~200mm,高度为240~280mm;环形凸台外径为170~198mm,高度为8~10mm,钨坩埚本体重量为30~55kg,本实用新型解决了现有钨坩埚不便于使用吊装的方式,从而无法提高单炉产量的弊端。