一种电子背散射衍射的分析方法

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专利状态

一种电子背散射衍射的分析方法

有效

专利申请进度

申请

2020-06-09

申请公布

2020-09-18

授权

2023-09-15

预估到期

2040-06-09

专利基础信息

申请号	CN202010517623.1	申请日	2020-06-09
申请公布号	CN111678932A	申请公布日	2020-09-18
授权公布号	CN111678932B	授权公告日	2023-09-15
分类号	G01N23/20058;G01N23/203;G01N23/2055;G01N23/2251;G01N33/204
分类	测量；测试;
申请人名称	首钢集团有限公司
申请人地址	北京市石景山区石景山路68号

专利法律状态

2023-09-15

授权

状态信息

授权
2020-10-20

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):G01N23/20058；申请日:20200609
2020-09-18

公布

状态信息

公布

摘要

本发明公开了一种电子背散射衍射的分析方法：根据预设工艺制备标定样品；根据预设工作参数，在扫描电镜下对标定样品进行电子背散射衍射EBSD分析，确定标定样品的目标晶界；采用第一扫描步长对目标晶界进行线扫描分析，获取在线扫描路径上的全部采样点的菊池花样的花样质量BC值；对所有的BC值进行单峰拟合，获得BC值的单峰拟合曲线；确定单峰拟合曲线的半高宽，将半高宽确定为扫描电镜在预设工作参数下的EBSD分析的空间分辨率；根据空间分辨率，确定对待分析样品进行EBSD分析时的目标分析参数。上述方法能够更加方便、快捷地分析出当前工作参数下EBSD的空间分辨率，基于此提高对待分析样品进行EBSD分析的准确性。

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