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专利状态
制备DLC膜的工业型自动化气相沉积设备
有效
专利申请进度
申请
2015-07-03
申请公布
2015-10-07
授权
2018-01-05
预估到期
2035-07-03
专利基础信息
申请号 CN201510383028.2 申请日 2015-07-03
申请公布号 CN104962914A 申请公布日 2015-10-07
授权公布号 CN104962914B 授权公告日 2018-01-05
分类号 C23C28/04;C23C14/35;C23C16/515;C23C16/22;C23C14/06
分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称 成都工具研究所有限公司
申请人地址 四川省成都市新都区工业大道东段601号
专利法律状态
  • 2018-01-05
    授权
    状态信息
    授权
  • 2015-11-11
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效IPC(主分类):C23C 28/04申请日:20150703
  • 2015-10-07
    公布
    状态信息
    公开
摘要
本发明是制备DLC膜的工业型自动化气相沉积设备,解决巳有的气相沉积设备结构复杂,造价高,不易于操作、不能精确控制的问题。在该设备的沉积室内同时具有物理气相沉积(PVD)单元和物理化学气相沉积(PCVD)单元,既可以采用单一单元单独进行DLC膜的沉积,也可以交替使用两个单元进行连续的DLC的复合沉积,该设备由沉积室、供气系统、真空系统、加热系统、水冷系统、磁控溅射系统、工件高压绝缘装夹系统、电气控制系统、脉冲调制电源系统等组成,具有容量大、自动化程度高、精密度高、安全性强、可扩展性强、操作及维护简单、产品应用范围广等众多优点,可广泛应用于机械、航空航天、医药等诸多领域。