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专利状态
一种栅格图像边缝路径及边缝拓扑结构的生成方法及系统
有效
专利申请进度
申请
2010-12-17
申请公布
2012-07-04
授权
2015-06-03
预估到期
2030-12-17
专利基础信息
申请号
CN201010609124.1
申请日
2010-12-17
申请公布号
CN102542555A
申请公布日
2012-07-04
授权公布号
CN102542555B
授权公告日
2015-06-03
分类号
G06T7/00;G06T5/00
分类
计算;推算;计数;
申请人名称
方正国际软件(北京)有限公司
申请人地址
北京市海淀区颐和园路5号
专利法律状态
2015-06-03
授权
状态信息
授权
2013-01-09
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效IPC(主分类):G06T 7/00申请日:20101217
2012-07-04
公布
状态信息
公开
摘要
本发明公开了一种栅格图像边缝路径及边缝拓扑结构的生成方法及系统,属于图像边界检测技术领域。该方法包括:选定栅格图像,通过梯度幅度图的计算,进行边界检测计算,得到所述图像的边界点;选取步骤S1中一个边界点,根据像素点梯度幅度进行邻域追踪,得到下一个边界点;第二个边界点结合第一个边界点参照水平、竖直方向的边缝梯度转化为边缝路径;重复以上步骤,直至完成整幅栅格图像的边缝路径;记录边缝路径信息,以及交叉点的信息,生成边缝拓扑结构。本发明生成的边界具有更准确的定位精度、更好的连续性及更丰富的边界信息,能够适应目前图像处理各热点领域对边界检测的应用要求。
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