硅片单面抛光治具_专利查询-品牌网

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专利状态

硅片单面抛光治具

有效

专利申请进度

申请

2019-04-11

授权

2019-10-01

预估到期

2029-04-11

专利基础信息

申请号	CN201920483697.0	申请日	2019-04-11
授权公布号	CN209461426U	授权公告日	2019-10-01
分类号	H01L21/67;H01L21/683;H01L31/18
分类	基本电气元件;
申请人名称	常州亿晶光电科技有限公司
申请人地址	江苏省常州市金坛市尧塘镇金武路18号

专利法律状态

2019-10-01

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开了一种硅片单面抛光治具，用作真空吸盘，包括：用于放置硅片的孔板，所述孔板的端面上密集开设有气孔，所述孔板侧壁上开设有出气孔，所述出气孔与所述气孔从孔板的内部相互连通；放置所述硅片时，气孔均被硅片遮盖；环绕孔板设置的外框，所述外框的内壁与所述孔板的外壁固定连接，所述外框上设有抽气孔，所述抽气孔与出气孔密闭连通。本实用新型是对槽式碱抛光设备单面刻蚀抛光而设计的治具，治具的两侧放上硅片，并给治具抽真空，让硅片吸附在该治具上，让硅片抛光面接触药液，扩散面受到治具贴紧吸附保护住，从而解决硅片在刻蚀抛光槽扩散面过刻。

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