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专利状态
管式PECVD石墨舟硅片复位拍舟装置
有效
专利申请进度
申请
2019-04-02
授权
2019-11-19
预估到期
2029-04-02
专利基础信息
申请号 CN201920436266.9 申请日 2019-04-02
授权公布号 CN209652423U 授权公告日 2019-11-19
分类号 C23C16/458;H01L31/18
分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称 常州亿晶光电科技有限公司
申请人地址 江苏省常州市金坛市尧塘镇金武路18号
专利法律状态
  • 2019-11-19
    授权
    状态信息
    授权
摘要
本实用新型提供了一种管式PECVD石墨舟硅片复位拍舟装置,缓冲区对应石墨舟上方固定有支架,拍舟装置包括至少两组连接在支架上的拍打机构;拍打机构包括拍打气缸,拍打气缸的活塞杆向下伸出并指向石墨舟上端面,拍打气缸的活塞杆下端面上固定有附件加工件,附件加工件的下端面上固定有硅胶缓冲垫;拍打气缸的外壳上还固定有气缸缓冲器,拍打气缸的外壳上具有气缸挡块,气缸挡块与气缸缓冲器之间距离为活塞杆运动的最大行程;拍打气缸的外壳上还固定有上限位块。本实用新型提供的管式PECVD石墨舟硅片复位拍舟装置,结构设计合理,采用机械替代人工,减少人工损耗,提高工艺效率,同时减少工艺硅片污染,减少硅片破片率并可有效提高硅片良品率。