用于将元件载体暴露在光下的设备

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专利状态

用于将元件载体暴露在光下的设备

有效

专利申请进度

申请

2016-01-28

授权

2016-12-07

预估到期

2026-01-28

专利基础信息

申请号	CN201620085600.7	申请日	2016-01-28
授权公布号	CN205787588U	授权公告日	2016-12-07
分类号	G03F7/20;H05K3/06
分类	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕;
申请人名称	奥特斯（中国）有限公司
申请人地址	上海市闵行区莘庄工业区金都路5000号

专利法律状态

2016-12-07

授权

状态信息

授权

摘要

一种用于将元件载体(170)暴露在光下的设备(100)，设备(100)包括：第一容纳板(110)，用于在第一位置容纳元件载体(170)；检测单元(120)，用于检测元件载体(170)的至少一个几何性质；以及选择单元(130)，其被配置为基于元件载体(170)的至少一个检测的几何性质确定用于在第二位置容纳元件载体(170)的第二容纳板(210)的至少一个期望的特性。

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