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专利状态
一种参考轨迹平滑处理方法、装置、终端设备及存储介质
有效
专利申请进度
申请
2020-04-14
申请公布
2020-09-18
授权
2022-07-29
预估到期
2040-04-14
专利基础信息
申请号
CN202010292449.5
申请日
2020-04-14
申请公布号
CN111680114A
申请公布日
2020-09-18
授权公布号
CN111680114B
授权公告日
2022-07-29
分类号
G06F16/29;G05D1/02;G06F17/12
分类
计算;推算;计数;
申请人名称
武汉光庭信息技术股份有限公司
申请人地址
湖北省武汉市东湖开发区光谷软件园一期以西、南湖南路以南光谷软件园六期2幢8层208号
专利法律状态
2022-07-29
授权
状态信息
授权
2020-09-18
公布
状态信息
公布
摘要
本发明提供一种参考轨迹平滑处理方法、装置、电子设备及存储介质,该方法包括:将绝对坐标系下参考轨迹点集合转换为随参考轨迹长度变化的两组数据集合;将两组数据集合以等步长方式划分,并根据最小二乘法对划分后的第一分段数据均进行拟合得到拟合曲线方程;对第一分段后的各分段数据依次通过带约束条件的最小二乘法进行拟合分别得到对应的拟合曲线方程;基于各分段的拟合曲线方程通过等距采样计算轨迹坐标点,将依次计算的所有轨迹坐标点作为平滑处理后的参考轨迹。通过该方案解决了现有参考轨迹存在误差时,进行平滑处理的计算过程复杂问题,可以简化计算过程,消除异常轨迹点,保障参考轨迹的准确可靠。
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