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专利状态
点源全息图测距装置及测距方法
有效
专利申请进度
申请
2014-01-21
申请公布
2014-04-02
授权
2016-05-25
预估到期
2034-01-21
专利基础信息
申请号 CN201410025866.8 申请日 2014-01-21
申请公布号 CN103698768A 申请公布日 2014-04-02
授权公布号 CN103698768B 授权公告日 2016-05-25
分类号 G01S17/08
分类 测量;测试;
申请人名称 先临三维科技股份有限公司
申请人地址 浙江省杭州市萧山区闻堰街道湘滨路1398号
专利法律状态
  • 2018-07-20
    专利权人的姓名或者名称、地址的变更
    状态信息
    专利权人的姓名或者名称、地址的变更;IPC(主分类):G01S17/08;变更事项:专利权人;变更前:杭州先临三维科技股份有限公司;变更后:先临三维科技股份有限公司;变更事项:地址;变更前:311215 浙江省杭州市萧山区经济技术开发区建设一路66号华瑞中心1号楼18层;变更后:311258 浙江省杭州市萧山区闻堰街道湘滨路1398号
  • 2016-05-25
    授权
    状态信息
    授权
  • 2014-06-25
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):G01S17/08;申请日:20140121
  • 2014-04-02
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明公开了一种点源全息图测距装置及测距方法,该装置沿着光路前进方向依次设置有半导体激光器(10)、平面反射镜(9)、测量点(1)、透镜(2)、线偏振片(3)、1/4波片(4)、双折射晶体(5)、线偏振片(6)、电子耦合器件(7)以及计算机处理系统(8),所述装置在线偏振片(3)与线偏振片(6)的光轴相互垂直时采集第一全息图,在二者的光轴相互平行时采集第二全息图,根据该第一全息图和第二全息图的差值处理得到测量点(1)的实际距离。本发明由于采用了共轴光路测量系统,可以大大增强系统的抗干扰性,具有稳定、高效率及不受被测表面特性影响的特点,可以达到1微米的测量精度,在工业领域具有广泛的应用前景。