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专利状态
工艺系统
有效
专利申请进度
申请
2022-12-30
授权
2023-06-13
预估到期
2032-12-30
专利基础信息
申请号
CN202223564476.7
申请日
2022-12-30
授权公布号
CN219179772U
授权公告日
2023-06-13
分类号
G03F7/20;H01L21/67
分类
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
申请人名称
台积电(中国)有限公司
申请人地址
中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号
专利法律状态
2023-06-13
授权
状态信息
授权
摘要
一种工艺系统包含曝光机台、多个装载端口、接口模块和传送模块。曝光机台包含壳体和设置在壳体中的多个曝光晶圆载台。多个装载端口沿第一方向排列。接口模块连接在曝光机台和这些装载端口之间。传送模块设置在接口模块中。传送模块包含:轨道、升降机、旋转件、线性致动器和晶圆夹持器。轨道沿第一方向延伸。升降机可移动地连接至轨道。旋转件可由升降机升降。线性致动器可由旋转件旋转并且可沿垂直于第一方向的第二方向移动。晶圆夹持器在线性致动器上。
更多专利
1
承载装置和晶圆冷却系统
2
晶圆载具的存储装置
3
晶圆位置采集机构及晶圆纠偏系统
4
测试平台
5
晶圆电极的清洁装置
6
一种导向装置
7
一种晶圆传送系统
8
晶圆清洗设备及定位治具
9
离子源灯丝结构、离子源装置及离子注入设备
10
定位治具
11
运输装置
12
半导体设备的测量工装
13
晶圆载具的夹取装置
14
晶圆载具的开合装置
15
工艺系统
16
链条松紧度测量装置
17
用于半导体制造的辅助工装
18
预处理盒
19
夹具及扩散装置
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