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专利状态
晶体的镀膜方法
有效
专利申请进度
申请
2020-09-17
申请公布
2020-12-11
授权
2022-05-06
预估到期
2040-09-17
专利基础信息
申请号
CN202010978089.4
申请日
2020-09-17
申请公布号
CN112059442A
申请公布日
2020-12-11
授权公布号
CN112059442B
授权公告日
2022-05-06
分类号
B23K26/38;B23K26/402;G02B1/02;G02B1/10
分类
机床;不包含在其他类目中的金属加工;
申请人名称
浙江水晶光电科技股份有限公司
申请人地址
浙江省台州市椒江区星星电子产业区A5号(洪家后高桥村)
专利法律状态
2022-05-06
授权
状态信息
授权
2020-12-11
公布
状态信息
公布
摘要
本发明提供了一种晶体的镀膜方法,涉及光学元件加工的技术领域,晶体的镀膜方法包括:沿着预设切割轮廓,利用激光从基片上表面入射在基片内部进行改质切割,得到第一中间产物;对第一中间产物的上表面和/或下表面进行镀膜,得到第二中间产物;沿着预设切割轮廓,利用激光在第二中间产物上表面进行划切操作,对晶圆进行裂片处理,从而将目标产物与边角料分离。因为第一中间产物中的目标产物与边角料并没有分离,所以镀膜时,不会对目标产物的周向侧面产生污染,周向侧面不需要进行保护胶处理,更无需进行除胶处理了,简化了加工步骤。
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