电子狭缝光栅、立体显示装置

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专利状态

电子狭缝光栅、立体显示装置

审中

专利申请进度

申请

2013-08-09

授权

2014-02-12

预估到期

2023-08-09

专利基础信息

申请号	CN201320487592.5	申请日	2013-08-09
授权公布号	CN203433245U	授权公告日	2014-02-12
分类号	G02F1/155;G02B27/22
分类	光学;
申请人名称	深圳市亿思达科技集团有限公司
申请人地址	广东省深圳市南山区高新中三道环球数码大厦806室

专利法律状态

2016-03-23

专利权的无效、部分无效宣告

状态信息

专利权全部无效；IPC(主分类):G02F1/155；授权公告日:20140212；无效宣告决定日:20150608；无效宣告决定号:26077
2015-01-07

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

状态信息

专利权人的姓名或者名称、地址的变更；IPC(主分类):G02F1/155；变更事项:专利权人；变更前:深圳市亿思达显示科技有限公司；变更后:深圳市亿思达科技集团有限公司；变更事项:地址；变更前:518000 广东省深圳市南山区高新区南区数字技术园B1栋2楼C区；变更后:518000 广东省深圳市南山区高新中三道环球数码大厦806室
2014-02-12

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开了一种电子狭缝光栅、立体显示装置。所述电子狭缝光栅，包括依次层叠设置的第一基板、上电极结构、电致变色结构、下电极结构以及第二基板，所述下电极结构包括至少两层电极层，且每一电极层均包括多个沿同一方向延伸的条形电极，所述至少两层电极层中的条形电极彼此相互平行、间隔且电气绝缘设置，处于不同电极层的条形电极对应彼此之间的间隙而相互交替设置，使所述多个条形电极在所述第二基板上的投影为无缝投影，完整覆盖该投影区域对应的电致变色结构。本实用新型电子狭缝光栅能够调节其栅距、透光狭缝的宽度、透光狭缝的位置等参数。所述立体显示装置包括上述电子狭缝光栅。

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